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天博app > 站内搜索 > 全站搜索  '关键字: 曝光机'
  • SU-8光刻胶模具SU-8模具加工常用设备/耗材:等离子体处理机、匀胶机(旋涂机)、紫外线曝光机、热板、SU-8显影液等。...2021-01-14 08:52:20
  • PDMS-玻璃键合芯片完整工艺 2 所示。本文的阳膜是在超净间内制作完成,其中所用的主要设备是匀胶机,曝光机 ,以及可编程热板 PHP-8 等,设备如图 3 所示。(1)预处理:首...2020-04-08 10:28:01
  • 基于时间分辨免疫分析的冰毒检测微流控芯片试剂G3P-8旋转涂覆机;KW-4AH烤胶机;SERIES-60平行紫外曝光机;ARV-310液体混合真空搅拌机;FG-5001空气等离子体处理机;打...2018-11-07 09:49:11
  • 微流控液滴软模板制备二氧化钛中空微球光催化性能进行了初步评价。1实验部分1.1仪器与试剂均胶机、烘胶机、紫外曝光机、等离子体清洗器、倒置激光诱导荧光显微镜、彩色电荷耦合器件、扫描电镜,自...2018-09-14 09:03:01
  • 一种高感度深紫外正性化学增幅型抗蚀剂的制备剂膜层。采用ASMLScannerPAS5500/800型KrF激光步进曝光机进行曝光成像实验,曝光后,分别在80和100℃后烘60s,室温下用2?3...2018-08-15 11:10:22
  • 一种可以正负互用的水型化学增幅抗蚀剂的研究天博app天博app(Cy303),由红狮涂料厂提供1. 2仪器设备旋转涂布台;紫外曝光机,光源为200W高压紫外灯;显微照相,采用OLYMPUSBH型显微照相机...2018-08-09 08:56:21
  • 光刻技术图形转移工艺二:光刻材料及设备刻的质量。因此要有高的成品率,就必须制作出高质的光刻掩膜版。3.曝光系统曝光机 将光刻掩膜版与涂上光刻胶的晶圆片对准,用一定波长的紫外光经过光刻掩膜版...2018-06-07 08:41:19
  • 汶颢股份:硅片模具制作流程有前烘过程,且过程一样;阴胶还有后烘过程(同前烘),阳胶没有;1. 打开曝光机;放置硅片于曝光机硅片托盘上(调整于中央,靠紧里面);2. 打开真空泵,...2018-05-21 09:29:59
  • AZ 5214E 光刻胶围AZ光刻胶工艺条件:前烘:100℃ 60秒 (DHP)曝光:1线步进式曝光机/接触式曝光机反转烘烤:110~125℃ 90秒(DHP):去离子水30...2017-10-31 17:10:29
  • AZ P4620 光刻胶择AZ光刻胶工艺条件:前烘:100℃ 90秒 (DHP)曝光:G线步进式曝光机/接触式曝光机显影:AZ300MIF显影液 (2.38%) 23℃ 60...2017-10-31 17:08:42
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